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在炉中将硅带暴露于气体

摘要

一种用于从熔体生产带的系统,包括用于容纳熔体的坩埚和冷块。冷块具有直接地面对熔体的暴露面的表面。使用冷块在熔体上形成带。炉可操作地连接至坩埚。带在从熔体中移出后穿过炉。炉包括至少一个喷气嘴。喷气嘴可以掺杂带、在带上形成扩散阻挡物、和/或钝化带。带的一部分穿过炉,同时使用冷块在坩埚中形成带的一部分。

著录项

  • 公开/公告号CN113994031A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 尖端设备技术公司;

    申请/专利号CN202080043349.7

  • 申请日2020-05-12

  • 分类号C30B15/06(20060101);C30B11/00(20060101);C30B15/10(20060101);C30B15/14(20060101);C30B15/20(20060101);C30B29/06(20060101);

  • 代理机构11201 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人宋融冰

  • 地址 美国马萨诸塞州

  • 入库时间 2023-06-19 14:01:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B15/06 专利申请号:2020800433497 申请日:20200512

    实质审查的生效

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