一种平面光栅及单束光入射的三维磁光阱系统

摘要

本发明涉及一种平面光栅以及包含该平面光栅的单束光入射的三维磁光阱系统，该平面光栅包括三个刻蚀方向不同的区域：刻蚀区域一、刻蚀区域二和刻蚀区域三，所述刻蚀区域一、刻蚀区域二和刻蚀区域三的光栅结构参数完全一致，三个刻蚀区域的光栅刻蚀方向成三角阵列且两两之间夹角为60°。本发明可以解决现有磁光阱系统采用六束激光进行两两对射，六束光之间存在波动互扰、系统结构复杂、难以小型化等难题，可应用小型原子干涉陀螺、重力仪等量子精密测量系统和未来集成原子芯片系统中。