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一种高击穿电压氧化镓功率二极管及其制备方法

摘要

本发明涉及一种高击穿电压氧化镓功率二极管及其制备方法,该制备方法包括:选取衬底层,在衬底层上表面制备漂移层;在衬底层的下表面制备阴极;在漂移层的上表面制备阳极;对器件进行低温退火工艺处理,得到氧化镓功率二极管;其中,衬底层和漂移层均为Si或Sn掺杂的β‑Ga2O3材料,且漂移层的掺杂浓度低于衬底层的掺杂浓度,阳极为Ni/Au金属叠层,金属Ni与漂移层的界面处形成具有P型特征的NiO层,NiO层与漂移层形成异质PN结结构。本发明的制备方法,通过低温退火形成具有P型特性薄层NiO层可与β‑Ga2O3漂移层形成异质PN结结构,可调制电场分布,改善阳极金属与氧化镓界面特性,降低反向泄漏电流,提升器件的击穿电压。

著录项

  • 公开/公告号CN113964041A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN202111069074.7

  • 申请日2021-09-13

  • 分类号H01L21/34(20060101);H01L29/861(20060101);H01L29/24(20060101);

  • 代理机构61230 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘长春

  • 地址 710000 陕西省西安市雁塔区太白南路2号

  • 入库时间 2023-06-19 13:57:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-01-21

    公开

    发明专利申请公布

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