首页> 中国专利> 寡核苷酸合成中使用的多氟嵌段聚体以及使用其的寡核苷酸合成方法

寡核苷酸合成中使用的多氟嵌段聚体以及使用其的寡核苷酸合成方法

摘要

本发明提供一种使用容易获得的氟标记能够减小提纯负荷的多氟嵌段聚体以及使用其的寡核苷酸合成方法。合成由下述式子表示的多氟嵌段聚体,B为天然型或修饰核碱基;R1是在酸性或中性条件下能够脱保护的保护基;R3是磷酸保护基;Pro是无保护、保护或F‑protector,在核苷碱基B的被保护部为O的情况下是O(CH2)n(CF2)mCF3,在核苷碱基B的被保护部为N的情况下是NH(C=O)(CH2)n(CF2)mCF3,n为1或2,m为1~20的整数;X为O或S;l为0至58的整数;R7是(C=O)(CH2)2(C=O)(CH2)n(CF2)mCF3或甲硅烷基类保护基、n为1或2,m为1~20的整数。

著录项

  • 公开/公告号CN113924309A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社纳蒂亚斯;

    申请/专利号CN202080037793.8

  • 发明设计人 片冈正典;兵藤守;

    申请日2020-05-21

  • 分类号C07H19/073(20060101);

  • 代理机构31283 上海弼兴律师事务所;

  • 代理人王卫彬;徐婕超

  • 地址 日本兵库县神户市

  • 入库时间 2023-06-19 13:51:08

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号