公开/公告号CN113825819A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-12-21
原文格式PDF
申请/专利权人 昭和电工材料株式会社;
申请/专利号CN201980096455.9
申请日2019-06-27
分类号C09J201/00(20060101);C09J11/04(20060101);C09J163/00(20060101);C09J163/02(20060101);
代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;
代理人白丽
地址 日本东京
入库时间 2023-06-19 13:46:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-06-02
著录事项变更 IPC(主分类):C09J 201/00 专利申请号:2019800964559 变更事项:申请人 变更前:昭和电工材料株式会社 变更后:株式会社力森诺科 变更事项:地址 变更前:日本东京 变更后:日本东京
著录事项变更
机译: 制造用热塑性塑料改性的建筑材料和这种双黏合剂的双键黏合剂的方法
机译: 用于制造相同化合物的组合物和方法,用于形成的光学组分的组合物,用于光刻的膜形成组合物,抗蚀剂组合物,用于形成抗蚀剂图案的方法,用于制造辐射图案的组合物,用于制造膜的胶片,用于制造薄膜的方法,用于胶片的方法形成下层膜,用于光刻的下层膜的制造方法,抗蚀剂图案形成方法,电路图案形成方法和精制方法
机译: 化合物,其制造方法,组成,光学部件形成用组合物,光刻用膜形成用组合物,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,放射线敏感性组合物,非晶膜的制造方法,光刻用下层,成膜材料,形成用组合物用于光刻的底层膜,用于光刻的底层膜的制造方法,抗蚀剂图案形成方法,电路图案形成方法和纯化方法