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公开/公告号CN113892156A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-04
原文格式PDF
申请/专利权人 开普勒计算公司;
申请/专利号CN202080039195.4
发明设计人 R·拉玛穆尔蒂;S·马尼帕特鲁尼;G·塔雷贾;
申请日2020-04-07
分类号H01G4/30(20060101);H01G4/00(20060101);H01G4/33(20060101);
代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;
代理人张世俊
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-06-19 13:30:50
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-15
实质审查的生效 IPC(主分类):H01G 4/30 专利申请号:2020800391954 申请日:20200407
实质审查的生效
机译: 掺杂的极性层和半导体器件包含相同的
机译:意外掺杂半导体层的背景掺杂极性的确定
机译:硅掺杂对极性和非极性AlGaN外延层的结构,电学和光学性质的影响
机译:金属有机气相外延生长镁掺杂氮极性半极性(1011)GaN异质外延层的光致发光和正电子an灭研究
机译:缓冲层对斯堪迪亚掺杂氧化锆的LSCF阴极性能的影响
机译:理解平流层极性涡流:平流层动力学简单模型的参数灵敏度分析
机译:掺杂铌的氧化钛厚度和热氧化层对硅量子点太阳能电池作为掺杂阻挡层的影响
机译:耗尽层形成过程中掺杂极性半导体表面上基本激发的演化
机译:有限温度下掺杂极性半导体的非弹性散射