公开/公告号CN113854350A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-12-31
原文格式PDF
申请/专利权人 双工方程(武汉)科技发展有限公司;
申请/专利号CN202111170839.6
申请日2021-10-05
分类号A23B7/152(20060101);A23B9/22(20060101);
代理机构
代理人
地址 430044 湖北省武汉市东西湖区辛安渡街道袁家台118号
入库时间 2023-06-19 13:30:50
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-09-08
授权
发明专利权授予
机译: 一种制造具有杀菌效应的材料的方法和制造具有杀菌效果的产品的方法,其含有具有与光照射下的效果类似的试剂,即使没有光照射。
机译: 一种用于在密闭空间中升华或冷凝含水氟的设备。
机译: 一种使用干冰喷射在组织中获得磨损效果的技术。