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曝光用镜、曝光用镜的制造方法以及具备该曝光用镜的曝光装置

摘要

本发明提供能够以廉价的结构检测损伤、应变量等的镜的状态的曝光用镜、曝光用镜的制造方法、以及具备该曝光用镜的曝光装置。曝光用镜具备:反射膜,其形成于板状玻璃的表面侧,能够反射来自光源的光;以及导电性的成膜图案,其在板状玻璃的背面侧以比反射膜薄且从一端部到另一端部连续的方式成膜,成膜图案在曝光用镜损伤时断裂从而能够检测曝光用镜的损伤。

著录项

  • 公开/公告号CN113711127A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社V技术;

    申请/专利号CN202080029340.0

  • 发明设计人 麻籍文;吉本芳幸;

    申请日2020-04-07

  • 分类号G03F7/20(20060101);G02B5/08(20060101);

  • 代理机构11464 北京奉思知识产权代理有限公司;

  • 代理人邹轶鲛;石红艳

  • 地址 日本神奈川

  • 入库时间 2023-06-19 13:23:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2020800293400 申请日:20200407

    实质审查的生效

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