公开/公告号CN113686967A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-23
原文格式PDF
申请/专利号CN202111031770.9
申请日2021-09-03
分类号G01N29/11(20060101);G01N29/04(20060101);G01N29/22(20060101);
代理机构33101 杭州九洲专利事务所有限公司;
代理人韩小燕;沈敏强
地址 310014 浙江省杭州市下城区潮王路22号
入库时间 2023-06-19 13:21:35
机译: 一种使用氩/氧等离子体通过离子轰击来降低聚合物基底的边界表面反射的方法,该方法可用于降低光学元件例如玻璃的反射。菲涅尔镜片
机译: 降低鲍辛格效应引起的屈服应力降低的高韧性管线用厚钢板及其生产方法
机译: 掩模版,半导体曝光装置,半导体曝光方法和制造半导体装置以显着降低反射光的影响的方法,防止其他成员产生的暗光和防止从图案中反射出的光线