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公开/公告号CN113659008A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-16
原文格式PDF
申请/专利权人 电子科技大学;
申请/专利号CN202110952495.8
发明设计人 章文通;吴旸;张科;何乃龙;乔明;李肇基;张波;
申请日2021-08-19
分类号H01L29/78(20060101);H01L29/40(20060101);H01L21/336(20060101);
代理机构51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙);
代理人敖欢
地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
入库时间 2023-06-19 13:16:59
机译: 具有场整形层的高压半导体器件及其制造方法,包括将电场从表观层的表面分散开来的方法
机译: 具有用于钳位栅极-发射极电压的钳位元件的绝缘栅半导体器件及其制造方法
机译: 吸附有包含碳纳米管的碳纳米管的场发射器件,以增加器件的阈值电场,以及制造该器件的方法
机译:使用新颖的MBE模板方法并随后进行原子层沉积制造的具有高κHfO_2的硅金属氧化物半导体器件
机译:使用可光成像的聚合物制造具有广角液晶显示应用的脊场和边缘场多畴结构的方法
机译:具有富勒烯装饰的纳米颗粒的制造方法及其作为低介电常数的材料用于半导体器件的应用
机译:低功耗适配器应用中具有GaN器件的MHz有源钳位反激转换器的设计考虑
机译:具有32通道集成并行接收,激励和匀场(iPRES)头线圈阵列的人脑动态匀场
机译:集成的并行接收激励和匀场(iPRES)每个RF线圈元件具有多个匀场回路以改善B0匀场
机译:具有siC钳位二极管的三电平NpC逆变器的部分O态钳位pWm方法
机译:用于WDm应用的增益钳位,无串扰,垂直腔激光半导体光放大器