首页> 中国专利> EUV辐射源和相关方法

EUV辐射源和相关方法

摘要

一种激光产生等离子体类型的EUV辐射源包括:被配置为产生燃料微滴的燃料发射器;以及被配置为利用辐射照射燃料微滴以在等离子体形成区域处将燃料微滴转换为等离子体的激光系统;其中激光系统包括:被配置为产生第一波长的辐射的激光器;以及非线性介质,非线性介质被配置为接收第一波长的辐射,在辐射转换区域处使用非线性光学过程来产生第二波长的辐射,并且将第二波长的辐射传输到等离子体形成区域;其中第二波长长于第一波长。

著录项

  • 公开/公告号CN113661446A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201980094116.7

  • 发明设计人 W·乌巴克斯;O·O·弗索拉托;

    申请日2019-12-19

  • 分类号G03F7/20(20060101);H05G2/00(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人赵林琳

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-06-19 13:16:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-01-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2019800941167 申请日:20191219

    实质审查的生效

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号