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一种近完美光吸收体及其普适性的制备方法

摘要

本发明公开了一种近完美光吸收体及其普适性的制备方法。该光吸收体,由聚合物膜和光耗散层组成;所述聚合物膜和光耗散层均具有不贯穿整个膜的锥状结构;构成所述聚合物膜的材料是经重离子辐照后能产生可蚀刻潜径迹的高分子聚合物。该光吸收体在250‑14000nm波长范围具有高效的光吸收,尤其在600‑950nm波长范围内,平均光吸收率可以高达99.97%,可用于光热水处理等诸多领域。

著录项

  • 公开/公告号CN113640906A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院近代物理研究所;

    申请/专利号CN202110779304.2

  • 申请日2021-07-09

  • 分类号G02B5/00(20060101);C23C14/02(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/20(20060101);C25D5/56(20060101);

  • 代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人关畅

  • 地址 730013 甘肃省兰州市城关区南昌路509号

  • 入库时间 2023-06-19 13:15:27

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