新型C2NxO1-x/PIM-1混合基质膜及其制备方法和应用

摘要

本发明属于气体分离膜的技术领域，具体涉及一种新型的C2NxO1‑x/PIM‑1混合基质膜及其制备，以及其在CO2/N2以及CO2/CH4分离中的应用。所述混合基质膜以PIM‑1作为聚合物基质，膜中填充有C2NxO1‑x，C2NxO1‑x质量占PIM‑1质量的5%‑20%。本发明提供了一种新型C2NxO1‑x/PIM‑1混合基质膜，具有较高的气体渗透率，C2NxO1‑x原料廉价易得，混合基质膜制备方式简单易行，具有较好的经济效益和商业化前景。