一种活塞环DLC涂层沉积工艺及涂层沉积设备

摘要

本发明公开了一种活塞环DLC涂层沉积工艺及涂层沉积设备，其工艺步骤如下：S1：对活塞环进行预处理；S2：将预处理后的活塞环放置在支架上，调整环境参数，并对活塞环进行预加热；S3：对活塞环进行DLC涂层沉积；S4：完成活塞环的沉积工艺；其涂层沉积设备，包含有密封区、设置在密封区内的安置组件、驱动所述安置组件移动的移动组件和设置在所述密封区内的弧镀组件；通过安置组件实现活塞环的安放，通过移动组件和弧镀组件实现对活塞环的DLC涂层沉积处理，并采用本发明所提供的沉积工艺，达到保证了活塞环DLC的沉积工艺质量、降低了对设备的需求难度和降低了设备沉积错误风险的目的。