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微机电系统及其MEMS惯性传感器、制造方法

摘要

本发明公开了一种微机电系统MEMS惯性传感器,包括:第一晶圆,所述第一晶圆的正面设有第一凹槽;第二晶圆,所述第二晶圆包括晶圆框架和质量块,所述晶圆框架与所述质量块之间设有弹簧;所述质量块,所述弹簧与所述第一凹槽形成空腔;所述第二晶圆的背面与所述第一晶圆的正面直接键合;其中,所述质量块包括第二凹槽,所述第二凹槽中填充密度大于硅的金属层;上述MEMS惯性传感器具有更好的感知灵敏度和检测精度。

著录项

  • 公开/公告号CN113551672A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司;

    申请/专利号CN202110780190.3

  • 发明设计人 张拴;杨云春;马琳;陆原;郭鹏飞;

    申请日2021-07-09

  • 分类号G01C21/18(20060101);B81B7/02(20060101);B81C3/00(20060101);

  • 代理机构11570 北京众达德权知识产权代理有限公司;

  • 代理人梁凯

  • 地址 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区科创十四街99号33幢D栋二层2208号(集中办公区)

  • 入库时间 2023-06-19 13:00:48

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