一种基于磁控溅射的GaAs太阳能电池用减反射膜及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了一种基于磁控溅射的GaAs太阳能电池用减反射膜及其制备方法与应用。所述减反射膜包括ZnO层及SiO2层，所述ZnO层及SiO2层交替堆叠，所述ZnO层及SiO2层的光学厚度分别为各层对应材料参考波长的0.1～0.25倍；所述ZnO层的折射率为1.9～2.1，所述SiO2层的折射率为1.4～1.6。本发明制备的减反射膜在宽光谱范围内与太阳光谱有较好的匹配性(300～1400nm范围内最优平均反射率低至7.05％)，减反射效果较常规的减反射膜体系有所提升。