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基于石墨烯/氮化硼异质结构的太赫兹调制器及制备方法

摘要

本发明提供了一种基于石墨烯/氮化硼异质结构的太赫兹调制器及制备方法,太赫兹波调制器包括从下往上依次设置的p型硅衬底、氮化硼薄膜、石墨烯薄膜以及红外激光束,与常规石墨烯薄膜修饰的太赫兹调制器相比,氮化硼薄膜可以极大增加石墨烯薄膜的载流子迁移率,石墨烯/氮化硼异质结构与单层石墨烯修饰硅结构相比,具有远高于石墨烯修饰硅的载流子迁移率,在相同功率激光的照射下,以氮化硼作为绝缘层的太赫兹调制器内部载流子迁移率更高,通过氮化硼与石墨烯两者的共同作用,在红外光激光激励下提高太赫兹波的光调制深度和速度,对于太赫兹波的调制能力更强。

著录项

  • 公开/公告号CN113495372A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;王卓然;

    申请/专利号CN202010188561.4

  • 发明设计人 文天龙;王卓然;

    申请日2020-03-18

  • 分类号G02F1/015(20060101);C01B21/064(20060101);C01B32/194(20170101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道

  • 入库时间 2023-06-19 12:51:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-09-29

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G02F 1/015 专利申请号:2020101885614 申请公布日:20211012

    发明专利申请公布后的视为撤回

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