首页> 中国专利> 一种抑制射流倾斜的阵列化电流体喷印控制方法及装置

一种抑制射流倾斜的阵列化电流体喷印控制方法及装置

摘要

本发明属于喷墨打印技术领域,并具体公开了一种抑制射流倾斜的阵列化电流体喷印控制方法及装置,其包括如下步骤:给点火喷嘴施加工作电压,使该点火喷嘴发生喷射,同时给点火喷嘴相邻的非点火喷嘴施加调控电压,使该非点火喷嘴不喷射,并能对点火喷嘴喷射处的电场进行调节,从而抑制射流倾斜。本发明可以解决目前阵列化电流体喷印喷头的独立喷射控制需求,通过高低压电场调控、喷嘴三态切换和间隔点火时序控制的方法,有效减少了喷射时的射流倾斜现象,同时为阵列化电流体喷印喷头的自动化控制和图案化打印打下了基础,且装置具有结构简单、同步性高、可靠性强且便于扩展等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN113478973A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN202110609528.9

  • 申请日2021-06-01

  • 分类号B41J2/095(20060101);

  • 代理机构42201 华中科技大学专利中心;

  • 代理人孔娜;尚威

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2023-06-19 12:51:29

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号