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一种基于III-V族化合物半导体工艺的宽带有源移相器

摘要

本发明提供一种基于III‑V族化合物半导体工艺的宽带有源移相器,属于集成电路技术领域。该移相器提出偏置运算单元以解决III‑V族化合物半导体工艺无法应用经典移相器结构的问题,即吉尔伯特偏置运算单元通过CCVS单元将I/Q两路电流转换成晶体管基极电压,再通过VCCS单元控制晶体管作差运算转换得到数控电流叠加单元输出的I/Q电流比值关系,最后偏置电流控制单元完成对I/Q正交信号合成矢量的象限选择及模拟加法器的电流控制,实现了吉尔伯特单元尾电流的精准调控;并同时提出有源跨导‑结电容多相滤波(gm‑Cbc PPF)结构增强移相器的带宽,最终可实现n bit的相位精度控制,且具有移相精度高、插入损耗低、面积小、工作带宽大且可调等优势。

著录项

  • 公开/公告号CN113452345A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN202110664157.4

  • 申请日2021-06-16

  • 分类号H03H11/16(20060101);

  • 代理机构51203 电子科技大学专利中心;

  • 代理人吴姗霖

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2023-06-19 12:43:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-06-03

    授权

    发明专利权授予

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