用于DAX成像的全视场散射估计

摘要

一种被配置用于相衬成像和/或暗场成像的X射线成像系统(XI)。所述系统包括：X射线源(XS)，其能操作用于使X辐射从所述源(XS)的焦斑(SF)发出；以及X射线敏感探测器(D)，其能操作用于：如果在所述X射线源与所述探测器(D)之间存在要被成像的对象，则在所述X辐射与所述对象发生相互作用之后探测所述X辐射。控制逻辑单元(CL)能操作用于使所述X射线成像装置在两种模式中的任意一种模式中操作，所述两种模式是对象图像采集模式和散射测量模式。当在散射测量模式中时在所述探测器处能接收到的所述X辐射与当所述系统在对象图像采集模式中时能接收到的X辐射相比包括更高比例的散射辐射。