公开/公告号CN113416086A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-21
原文格式PDF
申请/专利权人 湖南金硅科技有限公司;
申请/专利号CN202110677117.3
申请日2021-06-18
分类号C04B35/83(20060101);C04B35/52(20060101);C23C16/26(20060101);C23C16/44(20060101);
代理机构43114 长沙市融智专利事务所(普通合伙);
代理人张伟
地址 413000 湖南省益阳市益阳高新开发区东部产业园孵化楼25层2503号
入库时间 2023-06-19 12:40:27
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-10-27
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C04B35/83 专利申请号:2021106771173 申请公布日:20210921
发明专利申请公布后的驳回
机译: 通过化学气相沉积(CVD)涂覆IT和ZR的碳或碳共混物的工艺以及从至少两种金属前体形成陶瓷涂层的设备
机译: 从热解炉管中去除碳沉积物的方法
机译: 金属的蒸气相碳沉积过程金属的蒸气相碳沉积过程零件表面和所获得的部分艺术品表面,以及零件所获得的