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一种改善Cu基体与碳基薄膜结合力的方法

摘要

本发明公开一种提高Cu基体与碳基薄膜结合力的方法。该方法是通过以下步骤实现的:采用双辉渗金属技术在覆有模板的Cu基体表面制备亲碳金属过渡层骨架,去除模板后采用该技术对基体及骨架表面进行高密度Ar+轰击刻蚀处理,提高碳原子的成核密度,最后通过溅射镀膜或等离子化学气相沉积法在图形化的基体上沉积碳基薄膜,提高碳基薄膜与Cu基体的结合力。该方法具有过程简单、可控性好、绿色环保等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN113403577A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 太原理工大学;

    申请/专利号CN202110700140.X

  • 申请日2021-06-23

  • 分类号C23C14/04(20060101);C23C14/02(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/34(20060101);C23C16/04(20060101);C23C16/02(20060101);C23C16/26(20060101);C23C16/50(20060101);C23C14/35(20060101);C23C14/48(20060101);

  • 代理机构14101 太原市科瑞达专利代理有限公司;

  • 代理人王思俊

  • 地址 030024 山西省太原市万柏林区迎泽西大街79号

  • 入库时间 2023-06-19 12:37:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-06-03

    授权

    发明专利权授予

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