碳钢基体磁控溅射SiC薄膜结合力研究

摘要

采用磁控溅射法在T10钢表面获得了SiC薄膜,并研究了溅射方式、工艺参数以及中间层对薄膜结合性能的影响。试验结果表明,采用功率为200 W射频法和时间为2 h的SiC/N i-P双层薄膜结合力最好。