一种念珠状材料填充的混合基质膜的制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种念珠状材料填充的混合基质膜的制备方法和应用，涉及混合基质膜技术领域。本发明用PSS‑ZIF作为填充剂制备混合基质膜，该杂化膜的厚度100～130μm，它由质量分数为3wt.％～9wt.％的PSS‑ZIF和91％～97％的Pebax®1657组成；所述PSS‑ZIF填充Pebax制备混合基质膜的制备方法，包括以下步骤：Step1；PSS‑ZIF的制备：①、将Zn(NO3)2·6H2O和氨基乙醇混合后进行反应，得到纳米氢氧化锌(ZHNs)溶液；②、基于上述溶液，将ZHNs与聚苯乙烯磺酸钠(PSS)进行反应，制备得到PSS‑ZIF；本发明念珠状材料填充的混合基质膜的制备方法，此方法制备的Pebax/PSS‑ZIF混合基质膜用于分离CO2/CH4混合气(v/v，20:80)，显示所制备的混合基质膜具有高渗透率和高分离因子。