真空系统、低压真空工艺设备及截止件

摘要

本发明涉及半导体技术领域，提出了一种真空系统、低压真空工艺设备及截止件。真空系统包括：真空泵；排气管路，排气管路的一端用于连通待抽真空的腔室，排气管路的另一端连通真空泵；截止件，截止件与排气管路相连接，截止件包括过滤部和承载部，过滤部包括通道，承载部包括容纳槽，通道与容纳槽相连通。气体进入到真空泵之前，气体通过截止件进行颗粒物的截止，从而使得气体中携带的颗粒物在截止件的过滤部内进行截止，且使得颗粒物能够由过滤部排入到承载部内进行存储，保证由过滤部排出的气体不携带颗粒物，以此避免颗粒物进入到真空泵内，保证真空泵能够正常运行，从而改善真空系统的使用性能。