一种PDMS微流控芯片上半球腔制备工艺

摘要

一种PDMS微流控芯片上半球腔制备工艺，包括如下步骤：S1、将含PDMS与固化剂的第一混合液倒在硅片上并予以保持；S2、将球形阳模放在硅片上的设定位置；S3、将第一混合液固化成型为PDMS模具，PDMS模具具有通过球形阳模形成的半球腔；S4、将PDMS模具从硅片上取下，并将球形阳模放入PDMS模具的半球腔，其中，PDMS模具上的除半球腔之外的区域覆盖隔离层；S5、将含PDMS与固化剂的第二混合液倒在PDMS模具上并予以保持；S6、将第二混合液固化成型为具有上半球腔的PDMS微流控芯片，随后将PDMS微流控芯片与PDMS模具分离。所制备的PDMS微流控芯片的上半球腔能够实现光的聚集，特别适用于某些微弱光信号的捕捉及检测的场景，例如实时荧光核酸扩增检测等应用。