公开/公告号CN113362411A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-07
原文格式PDF
申请/专利权人 智裳科技(上海)有限公司;
申请/专利号CN202110611945.7
申请日2021-06-01
分类号G06T11/00(20060101);
代理机构31236 上海汉声知识产权代理有限公司;
代理人胡晶
地址 200051 上海市长宁区延安西路1882号27幢
入库时间 2023-06-19 12:29:04
机译: 自动生成成像系统的掩模布局和照明像素图案中的至少一种的方法
机译: 自动生成成像系统的掩模版图和照明像素图案中的至少一种的方法
机译: 制造能够将电子束或X射线局部辐射到金属有机前驱体成分的纳米印相照相术的纳米图案印章的方法,并洗涤一种显影剂