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平坦度得到改善的薄膜蒸镀用掩膜组装体及其制造方法

摘要

本发明涉及平坦度得到改善的薄膜蒸镀用掩膜组装体及其制造方法,包括:准备步骤,准备四边框形态的框架及薄膜掩膜;冲压步骤,通过以上述框架的4个边中心部为基准使4个角向下方变形的矫正力来塑性变形规定间隔;以及掩膜拉伸接合步骤,拉伸上述掩膜,来使其与受到上述矫正力的框架相接合。据此,在四边框形框架拉伸薄膜掩膜来接合而成的薄膜蒸镀用掩膜组装体,通过提供以框架的4个边中心部为基准使4个角向下方变形的矫正力,可使掩膜应力与框架应力相互抵消。结果,可尽可能提高掩膜拉伸力,并可提高掩膜下垂减少效果,与掩膜拉伸力的增加无关地,可改善掩膜组装体的平坦度。

著录项

  • 公开/公告号CN113308666A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 皮姆思株式会社;

    申请/专利号CN202010202266.X

  • 发明设计人 庾弘宇;

    申请日2020-03-20

  • 分类号C23C14/04(20060101);C23C14/12(20060101);C23C14/24(20060101);

  • 代理机构11579 北京锺维联合知识产权代理有限公司;

  • 代理人罗银燕

  • 地址 韩国仁川市防筑路352101号、102号

  • 入库时间 2023-06-19 12:22:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-06-30

    授权

    发明专利权授予

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