一种高亮银色多介质薄膜真空磁控溅射制备工艺

摘要

本发明公开了一种高亮银色多介质薄膜真空磁控溅射制备工艺，属于真空镀膜领域。本发明的一种高亮银色多介质薄膜真空磁控溅射制备工艺，采用真空磁控溅射卷绕式镀膜机，以金属铌靶(NbOx)、硅靶(Si)、铟靶(In)、钛靶(Ti)作为溅射靶材，采用特定的溅射膜层叠层顺序和膜层厚度，实现高亮银色多介质薄膜的生产，提升薄膜的金属质感和银白色亮度效果，其中增加的金属保护层还能增加本发明的一种高亮银色多介质薄膜的耐腐蚀、耐高温高湿、耐低温等功能性效果，扩展其应用场景，并延长其使用寿命。