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一种含硅氧纳米晶层的多晶硅薄膜及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种含硅氧纳米晶层的多晶硅薄膜,包括位于衬底背面的隧穿层、位于隧穿层背面的掺杂多晶硅层、位于掺杂多晶硅层背面的烧结电极,还包括位于掺杂多晶硅层和烧结电极之间的第一硅氧纳米晶层。本发明提供一种含硅氧纳米晶层的多晶硅薄膜,增加掺杂的硅氧纳米晶层作为电极金属扩散的势垒层,防止金属浆料烧结时烧穿多晶硅层与晶体硅直接接触,阻挡电极金属向衬底扩散;本发明还提供了一种含硅氧纳米晶层的多晶硅薄膜的制备方法和应用,其将制备隧穿层与掺杂多晶硅层中的退火晶化过程与制备烧结电极中的高温烧结过程合二为一,降低成本;将含硅氧纳米晶层的多晶硅薄膜应用于太阳能电池,提高电池效率。

著录项

  • 公开/公告号CN113314630A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202110428229.5

  • 申请日2021-04-21

  • 分类号H01L31/0368(20060101);H01L31/068(20120101);H01L31/18(20060101);

  • 代理机构33228 宁波甬致专利代理有限公司;

  • 代理人李魏

  • 地址 315201 浙江省宁波市镇海区中官西路1219号

  • 入库时间 2023-06-19 12:21:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-05-23

    授权

    发明专利权授予

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