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利用气体分子辅助插层-剥离制备纳米片的方法及纳米片

摘要

本公开提供了一种利用气体分子辅助插层‑剥离制备纳米片的方法及纳米片,其中,该方法包括以下步骤:将层状体相材料与溶剂混合,配置成悬浊液;向悬浊液中加入插层气体,加热并搅拌;对产物进行超声,得到层状体相材料经插层以及剥离处理后的纳米片。此方法不需要大型设备和苛刻的反应条件,生产成本低,工艺简单,反应体系洁净易于大批量生产。

著录项

  • 公开/公告号CN113213546A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学技术大学;

    申请/专利号CN202110588030.9

  • 发明设计人 张晓东;刘文秀;王辉;谢毅;

    申请日2021-05-27

  • 分类号C01G49/00(20060101);C01G39/06(20060101);C01B25/02(20060101);C01B19/04(20060101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人吴梦圆

  • 地址 230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号

  • 入库时间 2023-06-19 12:08:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-02-28

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C01G49/00 专利申请号:2021105880309 申请公布日:20210806

    发明专利申请公布后的驳回

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