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包含嵌段共聚物的用于形成硅质膜的组合物以及使用该组合物制造硅质膜的方法

摘要

提供一种用于形成硅质膜的组合物,其能够填充具有窄的宽度和高纵横比的沟槽并获得较厚的膜。用于形成硅质膜的组合物,包含:(a)嵌段共聚物,其具有含有5个以上硅的聚硅烷骨架的直链和/或环状嵌段A和具有含有20个以上硅的聚硅氮烷骨架的嵌段B,以及(b)溶剂。

著录项

  • 公开/公告号CN113227215A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 默克专利有限公司;

    申请/专利号CN201980084458.0

  • 发明设计人 藤原嵩士;佐藤敦彦;

    申请日2019-12-18

  • 分类号C08G77/42(20060101);C08G77/452(20060101);C08G77/60(20060101);C08G77/62(20060101);C09D183/16(20060101);H01L21/30(20060101);H01L21/56(20060101);

  • 代理机构11216 北京三幸商标专利事务所(普通合伙);

  • 代理人刘卓然

  • 地址 德国达姆施塔特

  • 入库时间 2023-06-19 12:07:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-08-11

    授权

    发明专利权授予

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