一种200mm CMP Ring PPS大平面研磨方法

摘要

本发明提供一种200mm CMP Ring PPS大平面研磨方法，所述研磨方法包括：对研磨机、研磨液以及研磨产品进行准备；将所述研磨产品安装至所述研磨机，并对所述研磨产品进行研磨加工；对所述研磨机进行保养。所述研磨方法可以提高PPS大平面的研磨效果，使得PPS表面产生镜面效果，增加CMP Ring的研磨使用次数。