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ヘリカルスキャン研削法に関する研究 第1報:窒化珪素セラミックスに対するヘリカルスキャン平面研削の効果

机译:螺旋扫描研磨方法研究。III:螺旋扫描平面研磨对氮化硅陶瓷的影响

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摘要

高い研削能率を保ちつつ,表面粗さを向上させることを目的に,研削速度方向に対しワーク送り方向を所定量だけ傾斜させて研削を行うヘリカルスキャン研削法について検討した.本研削法は,意図的に砥粒軌跡を傾斜させて制御することによって実質的な砥粒間隔が狭くなるため,粗粒砥石でも表面粗さを大幅に改善することができる特徴をもつ.本研究では,ヘリカルスキャン研削法をメタルボンドダイヤモンドホイールによる窒化珪素(Si{sub}3N{sub}4)の平面研削に適用し,表面粗さの改善効果を各種研削パラメータとの関係で調べて,検討した.その結果,粗粒砥石(SD170)を用いた場合,送り角を設けることで表面粗さが改善し,細粒砥石(SD600)による通常研削と同等の表面粗さの値を示した.また,本手法は,送り速度が大きい高能率条件でも表面粗さの改善効果が現れ,切込み深さについても,その大小にかかわらず,表面粗さが大幅に改善できることがわかった.
机译:为了在保持高研磨效率的同时改善表面粗糙度,检查用于通过预定量研磨到研磨速度方向的螺旋扫描研磨方法和研磨。这种控制方法是故意通过倾斜和控制磨料谷物基因座而吸引,使得即使用粗磨轮也可以显着提高表面粗糙度。在该研究中,螺旋扫描方法通过金属粘合金刚石轮施加到氮化硅(Si {Sum} 3N {Sub} 4)的平面研磨,并且研究了改善表面粗糙度的效果与各种研磨参数相关。,调查。结果,当使用粗磨轮(SD170)时,通过提供进料角度,提高了表面粗糙度,并且示出了与细粒磨石(SD600)的正常研磨等同的表面粗糙度的值。此外,该方法还表明,即使在具有大进给速率的高效率条件下,也出现表面粗糙度的改善效果,并且无论切割深度的量如何,都可以显着改善表面粗糙度。

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