首页> 中国专利> III族氮化物发光器件及制造III族氮化物基半导体发光器件的方法

III族氮化物发光器件及制造III族氮化物基半导体发光器件的方法

摘要

本发明提供III族氮化物发光器件及制造III族氮化物基半导体发光器件的方法。在氮化镓基半导体区域的基面上生长具有量子阱结构的有源层。该量子阱结构以具有410nm以上的发射峰值波长的方式形成。阱层的厚度为4nm以上10nm以下。该阱层由InXGa1-XN(0.15≤X<1,其中X为应变组分)组成。所述氮化镓基半导体区域的基面关于六方晶系III族氮化物的{0001}面或{000-1}面以15度以上85度以下的范围内的倾斜角倾斜。该范围中的基面是半极性面。

著录项

  • 公开/公告号CN101515700B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-03-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 住友电气工业株式会社;

    申请/专利号CN200910007584.4

  • 申请日2009-02-23

  • 分类号H01S5/00(20060101);H01S5/343(20060101);H01L33/00(20060101);

  • 代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人孙志湧;穆德骏

  • 地址 日本大阪府大阪市

  • 入库时间 2022-08-23 09:13:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-13

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01S 5/00 授权公告日:20130306 终止日期:20170223 申请日:20090223

    专利权的终止

  • 2013-03-06

    授权

    授权

  • 2013-03-06

    授权

    授权

  • 2011-02-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S 5/00 申请日:20090223

    实质审查的生效

  • 2011-02-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S 5/00 申请日:20090223

    实质审查的生效

  • 2009-08-26

    公开

    公开

  • 2009-08-26

    公开

    公开

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