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一种基于光场双色反射模型和全变分的高反光去除方法

摘要

本发明涉及光场测量技术,具体涉及一种基于光场双色反射模型和全变分的高反光去除方法,首先对原始光场图像解码并得到多个视角的子孔径图像,运用自适应阈值分割算法提取中心子孔径图像中的高反光像素点。在RGB颜色空间内,使用最小二乘法对每个高反光像素点的多个视角进行空间线性拟合;通过双色反射模型DRM和TI分析,建立拟合的空间直线和DRM的关联,最终得到所对应拟合空间直线的截距项常量即为每个高反光像素点的漫反射颜色。经过遍历图像高反光像素点得到高光去除后的图像。将遮挡视为噪点,使用TV去噪模型去除图像纹理边缘的遮挡效应。该方法在复杂纹理、强反射表面、室内和室外场景的多个场景中,具有很强的鲁棒性。

著录项

  • 公开/公告号CN112712483A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湖北工业大学;

    申请/专利号CN202110049460.3

  • 申请日2021-01-14

  • 分类号G06T5/00(20060101);G06T7/11(20170101);G06T7/136(20170101);

  • 代理机构42222 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人彭艳君

  • 地址 430068 湖北省武汉市洪山区南李路28号

  • 入库时间 2023-06-19 10:44:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-05

    授权

    发明专利权授予

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