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公开/公告号CN112697836A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-04-23
原文格式PDF
申请/专利权人 杨方宗;
申请/专利号CN202011614618.9
发明设计人 杨杭福;黄霞妮;吴琼;泮敏翔;葛洪良;
申请日2020-12-31
分类号G01N25/20(20060101);
代理机构
代理人
地址 318208 浙江省台州市天台县南屏乡前杨村120号
入库时间 2023-06-19 10:43:23
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-08-19
发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):G01N25/20 专利申请号:2020116146189 申请公布日:20210423
发明专利申请公布后的撤回
机译: 测量膜样品的塞贝克系数和/或热导率的方法和装置
机译: 磁性多层膜的X射线磁性圆二色性的测量方法
机译: 一种借助于合金电极板动物制备呈多层膜形式的磁性材料的方法
机译:厚度和界面对旋转塞贝克效应的低温增强的影响,旋塞贝克效应的基本性质,低温增强旋膜膜的旋膜效果,旋塞的基本特性
机译:钕铁石榴石多层膜的自旋塞贝克效应
机译:制备钇铁石榴石/ Pt多层膜用于纵向自旋塞贝克效应
机译:GGG / [YIG / Pt] n多层膜中的自旋塞贝克效应
机译:通过直流溅射生长的GMR磁性多层膜和自旋阀的结构研究。
机译:扶手椅石墨烯纳米带中的无金属磁性自旋相关塞贝克效应和自旋塞贝克二极管效应
机译:异常内塞系数厚度依赖性和纵向自旋塞贝克效应在铁磁性NixFe100-X膜中的效果
机译:最终报告:FG02-01ER-45906 - 一种基于磁性形状记忆合金的新型人工调制磁性多层膜