公开/公告号CN112646353A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-04-13
原文格式PDF
申请/专利权人 航天科工武汉磁电有限责任公司;
申请/专利号CN202011491515.8
申请日2020-12-16
分类号C08L75/02(20060101);C08L23/06(20060101);B32B3/12(20060101);B32B27/40(20060101);B32B27/02(20060101);B32B27/12(20060101);B32B27/32(20060101);B32B27/28(20060101);B32B33/00(20060101);B32B9/00(20060101);B32B9/04(20060101);B32B15/20(20060101);B32B15/08(20060101);B32B15/095(20060101);B32B15/088(20060101);B32B37/00(20060101);
代理机构11401 北京金智普华知识产权代理有限公司;
代理人杨采良
地址 434000 湖北省武汉市东湖高新开发区华光大道5-2号
入库时间 2023-06-19 10:36:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-09-20
授权
发明专利权授予
机译: 不透明的高抗冲击性甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯聚合物,用于提高聚氯乙烯的抗冲击性及其制备方法
机译: 具有高抗冲击性的铸板,其制备方法和获得的成型制品
机译: 具有高抗冲击性的铸板,其制备方法和获得的成型制品