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一种底栅顶接触结构的有机薄膜晶体管及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了一种底栅顶接触结构的有机薄膜晶体管及其制备方法与应用。所述有机薄膜晶体管结构自下而上依次为衬底、OTS修饰的绝缘层、有源层和源漏电极;或自下而上依次为衬底、铝、OTS修饰的绝缘层、有源层和源漏电极;所述有源层材料为PDQT。本发明以半导体聚合物材料PDQT为有源层,并用OTS修饰绝缘层,可显著提高有机薄膜晶体管对载流子的传输特性,为制备全溶液的全有机薄膜晶体管器件阵列提供参考。

著录项

  • 公开/公告号CN112652716A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华南理工大学;

    申请/专利号CN202011442474.3

  • 发明设计人 许伟;彭俊彪;宁洪龙;姚日晖;

    申请日2020-12-11

  • 分类号H01L51/05(20060101);H01L51/30(20060101);H01L51/40(20060101);

  • 代理机构44245 广州市华学知识产权代理有限公司;

  • 代理人殷妹

  • 地址 510640 广东省广州市天河区五山路381号

  • 入库时间 2023-06-19 10:35:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-10-27

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L51/05 专利申请号:2020114424743 申请公布日:20210413

    发明专利申请公布后的驳回

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