一种光学薄膜厚度的制备监控技术

摘要

本发明提供了一种光学薄膜厚度的制备监控技术，包括以下步骤：S1：使用控制系统将薄膜溅射装置、计时器和光谱检测对比装置相连接；S2：利用多次测量的方式对薄膜溅射装置的薄膜淀积速率进行测量，并根据制备薄膜的厚度计算制备时间；S3：将基体放置在薄膜溅射装置的内部，并在计时器中输入转换时间；S4：启动薄膜溅射装置进行薄膜的制备。通过改进，具有提升效率的优点，从而有效地解决了现有技术中的问题和不足。