公开/公告号CN112557423A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-03-26
原文格式PDF
申请/专利号CN202010964127.0
申请日2020-09-15
分类号G01N23/04(20180101);
代理机构23115 大庆知文知识产权代理有限公司;
代理人马微
地址 100007 北京市东城区东直门北大街9号中国石油大厦
入库时间 2023-06-19 10:24:22
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-05-17
授权
发明专利权授予
机译: X射线医学成像系统所有位置的几何参数确定方法,涉及确定成像系统或设备的固有参数并重复进行确定
机译: 用于产生温度校正的X射线的数字X射线检测器的温度确定方法,涉及从反向电流确定光电二极管处的数字X射线检测器的温度。
机译: 在数字射线照相成像期间自适应校正曝光参数的方法和系统