一种高饱和磁通密度铁硅磁粉芯的制备方法

摘要

本发明公开了一种高饱和磁通密度铁硅磁粉芯的制备方法，包括以下步骤：合金熔炼、破碎、分筛、表面处理、绝缘包覆、加润滑剂、压制成型、热处理和表面涂层处理；其中，分筛过程中采用‑250目：‑120目：‑60目=4：2：1的质量比进行粉料配比；热处理完成后对磁粉芯表面进行涂层处理。本发明的高饱和磁通密度铁硅磁粉芯的主要成分为二元系铁硅合金并添加0.12‑0.18%的铬和0.02‑0.04%的钡，硅7.2‑7.7%，余量为铁。本发明制备的高饱和磁通密度铁硅磁粉芯，饱和磁通密度可以达到1.8 T以上，而剩余磁化强度仅为0.12‑0.15T，故也可以使磁芯在通电流时不容易饱和，以达到提高磁芯输出功率的目的。