公开/公告号CN112509905A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-03-16
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院化学研究所;
申请/专利号CN202011291927.7
申请日2020-11-18
分类号H01J49/04(20060101);H01J49/16(20060101);
代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;
代理人刘小娟
地址 100190 北京市海淀区中关村北一街2号
入库时间 2023-06-19 10:14:56
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-06-21
授权
发明专利权授予
机译: 该系统可用于等离子处理平面基板,包括用于处理基板和等离子源的模块,基板传输系统以及彼此分离并与模块连接的气体供应和提取装置
机译: 离子注入装置以及用于离子注入装置的亚离子源和亚离子源
机译: 用于操作液态金属离子源或液态金属电子和液态金属离子源或液态金属电子源的方法和装置