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一种在陶瓷背板上沉积金属氧化物薄膜的方法及设备

摘要

本发明公开了一种在陶瓷背板上沉积金属氧化物薄膜的方法,该方法包括以下步骤:1)对若干个陶瓷背板的表面进行一次清洗,烘干,再将清洗烘干后的若干个陶瓷背板间隔放置在反应腔室内;2)对上述清洗烘干后的若干个陶瓷背板进行射频等离子体清洗;3)采用溅射工艺在上述经清洗后的陶瓷背板上沉积一层附着力强的过渡层;4)采用原子层沉积工艺在上述中沉积有过渡层的陶瓷背板上沉积一层或多层均匀一致的金属氧化物绝缘薄膜。本发明通过采用原子层沉积和物理气相沉积相结合的技术,在陶瓷背板上沉积一层或多层均匀一致的金属氧化物绝缘薄膜,该薄膜与陶瓷基体的附着力强,耐磨、耐高温和耐腐蚀,陶瓷背板的抗弯强度一般可提高50%以上。

著录项

  • 公开/公告号CN112481602A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 艾特材料有限公司;

    申请/专利号CN201910860876.6

  • 发明设计人 马岚;沈步云;

    申请日2019-09-11

  • 分类号C23C16/455(20060101);C23C16/02(20060101);C23C16/40(20060101);C23C14/34(20060101);C23C14/18(20060101);C23C14/10(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/02(20060101);

  • 代理机构44309 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙);

  • 代理人廉红果;苏景林

  • 地址 中国香港新界葵涌嘉庆路5-9号冠华镜厂第三工业大厦3A楼10室

  • 入库时间 2023-06-19 10:13:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/455 专利申请号:2019108608766 申请日:20190911

    实质审查的生效

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