一种低选择性的BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻液

摘要

本发明公开了一种低选择性的BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻液，主要成分包括氢氟酸、有机溶剂、含氟化合物、胺类。本发明的蚀刻液中氢氟酸用于蚀刻BPSG和PETEOS薄膜；有机溶剂用于降低蚀刻液对BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻速率，使蚀刻反应易于控制；含氟化合物作为氟离子缓释剂，提供氟离子，稳定蚀刻液的蚀刻速率和延长蚀刻液的使用寿命；胺类用于降低BPSG薄膜的蚀刻速率，使BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻速率选择比接近于1。本发明所述的蚀刻液能够使BPSG和PETEOS薄膜的蚀刻速率选择比稳定在1.1±0.2。