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一种大口径光学元件激光预处理和吸收型缺陷成像检测的联合装置

摘要

本发明公开了一种大口径光学元件激光预处理和吸收型缺陷成像检测的联合装置,运用高能量重复率脉冲激光经能量调节和准直扩束形成大尺寸光斑对光学元件进行激光预处理照射,同时光学元件吸收型缺陷由于吸收照射激光束能量在样品内形成瞬态温度分布及折射率分布。经过一定延时后,由另一束低能量脉冲激光经准直扩束形成大尺寸探测光斑照射光学元件被预处理激光照射的相同区域,其一定传输距离后的透射或反射衍射光场分布由CCD记录。通过分析处理CCD记录的衍射光场图像特征确定光学元件被照射区域是否存在吸收型缺陷以及相应特征,通过扫描实现大口径光学元件全口径激光预处理和吸收型缺陷的高分辨成像检测。

著录项

  • 公开/公告号CN112388156A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN202011227322.1

  • 发明设计人 李斌成;孙启明;

    申请日2020-11-06

  • 分类号B23K26/06(20140101);B23K26/064(20140101);G01N21/88(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2023-06-19 09:58:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-08

    授权

    发明专利权授予

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