凸面双闪耀光栅制备方法、装置及凸面双闪耀光栅

摘要

本发明涉及光学器件制备技术领域，尤其涉及一种凸面双闪耀光栅制备方法、装置及凸面双闪耀光栅。所述方法包括：通过双光束曝光法对已涂布光刻胶的凸面基底进行光刻处理，以获取光刻胶光栅，所述光刻胶光栅包括不同的预设光栅区域；根据各预设光栅区域对应的预设闪耀角获取对应预设光栅区域的同质掩模槽形；基于各预设光栅区域的同质掩模槽形，以所述光刻胶为掩模对对应的预设光栅区域进行离子束刻蚀，以获取石英掩模光栅；通过分区遮蔽方法以石英为掩模，对所述石英掩模光栅进行倾斜扫面离子束刻蚀，获得凸面双闪耀光栅。本发明通过同质掩模法制作凸面闪耀光栅，降低制作难度，提升制作速率。