凸面双闪耀光栅的制备方法

摘要

本发明是一种凸面双闪耀光栅的制备方法，该制备方法是在一球冠状凸面基底上制备两个闪耀角分别是A闪耀角和B闪耀角的凸面双闪耀光栅，通过A、B两个光栅区上分别使用光刻胶光栅和同质光栅为掩模进行球面转动斜向Ar离子束扫描刻蚀，实现两个闪耀角的不同控制，避免了二次光刻胶光刻工艺。由于在制备同质光栅时，可以控制正向离子束刻蚀的时间，使同质光栅的槽深得到精确控制，另外由于同质光栅掩模和基片是同一种材质形成，两者的刻蚀速率始终保持一致，因此可以实现闪耀角的精确控制。