公开/公告号CN112239852A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-19
原文格式PDF
申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;
申请/专利号CN202010650080.0
发明设计人 E·N·阿瓦拉;
申请日2020-07-08
分类号C23C14/34(20060101);
代理机构11322 北京尚诚知识产权代理有限公司;
代理人龙淳;刘芃茜
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 09:36:59
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-11-14
授权
发明专利权授予
机译: 旋转靶型电子束辐照激光成膜装置,旋转靶型电子束辐照膜形成装置
机译: 靶以及具有该靶的成膜装置
机译: 靶以及具备该靶的成膜装置