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磁性层叠体和含其的磁性结构体、含该层叠体或结构体的电子部件和磁性层叠体的制造方法

摘要

本发明提供一种磁饱和进一步得到抑制且具有更高的直流叠加特性的磁性层叠体和包含该磁性层叠体的磁性结构体、包含磁性层叠体或磁性结构体的电子部件。所述磁性层叠体是交替层叠金属磁性体层和金属非磁性体层而成的磁性层叠体,在金属磁性体层彼此之间配置有金属非磁性体层,金属磁性体层含有非晶材料,金属非磁性体层含有选自Cr、Ru、Rh、Ir、Re和Cu中的至少1种元素,且平均厚度为0.4nm~1.5nm。

著录项

  • 公开/公告号CN112216469A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社村田制作所;

    申请/专利号CN202010656393.7

  • 发明设计人 驹垣幸次郎;坂口健二;

    申请日2020-07-09

  • 分类号H01F10/13(20060101);H01F17/04(20060101);H01F27/24(20060101);H01F27/34(20060101);H01F41/02(20060101);H01F41/30(20060101);H01F41/32(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人金世煜;李书慧

  • 地址 日本京都府

  • 入库时间 2023-06-19 09:32:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-01-17

    授权

    发明专利权授予

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